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企業參加境外展會存在的知識產權風險有哪些？
企業海外參展常見的知識產權風險集中在專利權風險、商標權風險和版權風險三大方面。
1）專利權風險
參展產品融合了最先進的研發成果，因其外型、結構、原理被抄襲而引發的專利侵權糾紛Ψ是展會中發生比例最高的。外觀設計專利、普通的實用新型專利，內行人只要看一眼，立刻就能模仿。
2）商標權風險
商標具有地域性，在中國註冊的【商標，只在中國受保護，在參展地沒有註冊，則不受保護。如果企業的商標在中國註冊，但在參展地卻被其他人搶註成功，那麽企業未經授權在「參展地使用該商標就屬於侵權行為。此外，如果在商品、包裝以及相關廣告宣傳品上出現了在中國屬於通用名稱而在其他國家受法律保護的商標時，企業也會在不知呼喚越來越近情的情況下被視為商標侵權。
3）版權風險
參展企業㊣ 散發的參展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的▆展臺使用了他人設計方案，都會導致侵犯他人版權。展會中，因使用背景音樂、他人攝影作品或美術作品等而被追究責任的糾紛也有發生。企業還應註意展會現場使用的第五百五十四電腦中所承ω載的軟件是否是正版。
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